Наноимпринтная литография: японская компания «печатает» структуры на уровне 10 нм

За последние годы на фоне классических методов экспонирования в полупроводниковом производстве всё заметнее развивается альтернативный подход — наноимпринтная литография (NIL). Рост её популярности объясняется стремительным усложнением EUV-процессов и резким увеличением их стоимости. Введение High-NA EUV сделает ситуацию ещё более затратной и технологически требовательной.

Разработкой NIL занимаются лишь несколько компаний — среди них Canon и Nikon , известные по печатным технологиям. Недавно на себя обратил внимание американский стартап Substrate , который намерен заменить традиционную цепочку производителей вроде ASML и TSMC рентгеновской литографией. Эта технология обещает сверхтонкие структуры при значительно меньшей стоимости. Хотя теоретически она обеспечивает более высокое разрешение, чем современные EUV-системы, и уже привлекла инвесторов вроде фонда при ЦРУ, эксперты сохраняют скепсис: крупносерийное производство остаётся нерешённым вызовом. Лабораторные успехи — это одно, а достижение высокой точности и стабильной доли выхода ...