Война чипов: Китай незаметно добивается прогресса в разработке новых технологий, чтобы сократить зависимость от передовых литографических машин ASML
Местный лидер по производству полупроводникового оборудования Naura Technology Group начала предварительные исследования систем литографии в марте. Это прорыв, который потенциально может помешать попыткам США ограничить возможности Китая по производству чипов. Усилия, в которых участвуют несколько игроков в китайской цепочке поставок полупроводников, достигли предварительного исследовательского прогресса: в прошлом месяце компания Huawei Technologies подала патентную заявку, раскрывающую...
Сообщение Война чипов: Китай незаметно добивается прогресса в разработке новых технологий, чтобы сократить зависимость от передовых литографических машин ASML появились сначала на Время электроники.
Местный лидер по производству полупроводникового оборудования Naura Technology Group начала предварительные исследования систем литографии в марте.
Это прорыв, который потенциально может помешать попыткам США ограничить возможности Китая по производству чипов.
Усилия, в которых участвуют несколько игроков в китайской цепочке поставок полупроводников, достигли предварительного исследовательского прогресса: в прошлом месяце компания Huawei Technologies подала патентную заявку, раскрывающую метод, известный как самовыравнивающееся четырехкратное формирование рисунка, или SAQP, который может вытравливать линии на кремниевых пластинах несколько раз. раз, чтобы увеличить плотность транзисторов и производительность чипа.
Как сообщает South China Morning Post, патент, сочетающий в себе передовые технологии травления и литографии, «увеличит свободу проектирования схем», согласно заявке, поданной в Национальное управление интеллектуальной собственности Китая.
Используя SAQP с машинами для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) от голландского гиганта ASML и японских поставщиков, таких как Nikon, Китай может производить сложные 5-нанометровые чипы без необходимости использования более совершенных инструментов для работы в крайнем ультрафиолете (EUV), доступных только у ASML.
Президент Китая Си Цзиньпин заявил во время визита в Пекин премьер-министру Нидерландов Марку Рютте на прошлой неделе, что «никакая сила не может остановить темпы научно-технического развития и прогресса Китая», а министр торговли Китая Ван Вэньтао сказал своему голландскому коллеге Джеффри ван Леувену, что Нидерланды должны выполнить «контрактные обязательства» и обеспечить «нормальную» торговлю литографическими машинами.
Сообщение Война чипов: Китай незаметно добивается прогресса в разработке новых технологий, чтобы сократить зависимость от передовых литографических машин ASML появились сначала на Время электроники.